第266章 光刻机266（2 / 2）

参加完这场晚宴后，李宗良就没有再参与后面的年会。他还是要尽量减少在公共场合的露面。

因为现在的智能手机已经发展的很迅速了，加上各种社交软件，qq，微博，贴吧，他参加年会，肯定会被员工拍下来发布到各个平台的。

还是尽量避免这种情况的发生，李宗良还是想能正常行走在大庭广众之下的，他可不想过那种到哪都被人围观的生活。

本来智能手机的普及起码是五年后的事了，因为在李宗良不计成本的大资金投入下，华夏芯片技术取得巨大突破，高端自研芯片，在华为和各大研究所的努力下，已经追上了国际先进水平。

2007年，华为，环宇和华夏科研所共同研发的新款光刻机问世。

采用了双晶圆工作平台技术，这是其标志性技术之一。晶圆被交替地装载到twins平台上，当一个平台上的晶圆正在曝光时，另一个晶圆被装到二号平台进行对准和测量，然后两个平台交换位置，原来在二号平台的晶圆进行曝光，而一号平台的晶圆完成卸载。然后，新的晶圆被装载、对准和测量。这种方式大大提高了生产效率。

还有浸润式光刻技术，通过在透镜和晶圆之间增加一层超纯水来增加透镜的数值孔径，在传统的干式光刻技术中，孔径只能达到约0.93，而浸润式光刻技术使其能达到1.35。

这个技术是李宗良提出来的，他在后世也就知道，通过水的折射，可以提高数值孔径。使光刻系统能够以相同的光波长提供更好的分辨率和聚焦深度，从而更容易制造更小尺寸的芯片。就这一句话就让华夏光刻机有了赶超老外的机会。

还采用了先进的激光外差干涉技术，基于激光外差干涉技术的超精密位移测量系统具备亚纳米级分辨率、纳米级精度、米级量程和数米每秒的测量速度等优点，是目前唯一能满足光刻机要求的位移测量系统。该光刻机可能运用了此技术来实现高精度的位移测量和定位。

先进的光学系统和镜头设计，例如采用了兼反射光和折射光镜头设计等，以实现更高的分辨率和成像质量，其系统的分辨率从40nm改善至38nm。

优化的系统控制和自动化技术，能够精确控制各种工艺参数，保证光刻机的稳定性和重复性，在覆盖、分辨率、关键尺寸均一性和吞吐量等方面均有改善，总体改善率约25％，新的沉浸技术使吞吐量达到148wph。

这些技术让华夏的光刻机成为全球最先进的存在，其性能之强大令人惊叹！

相比之下，曾经称霸市场的阿麦斯、小日子的索尼和佳能等知名品牌黯然失色。华夏的光刻机的突破，抢占了各项专利，直接断掉了他们在光刻机领域的升级道路。

随着这一突破，华夏的芯片制造工艺得到了质的提升。原本依赖进口的局面被彻底打破，这使得华夏在高端芯片领域实现了自给自足。

而手机行业更是借助智能手机的兴起以及3g通信网络技术的广泛应用，人们的生活方式发生了翻天覆地的变化。移动互联网的发展让信息传播变得更为便捷，社交娱乐、在线购物等新兴业态蓬勃发展，这让李宗良旗下的阿里，腾讯等互联网公司市值暴涨。

总之，华夏的光刻机技术突破引领了一个全新时代的到来。

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